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芯片 光刻 芯片 光刻 芯片 光刻

手機(jī)、汽車、電腦顯卡、游戲主機(jī)等收到近期產(chǎn)能不足的影響已有多個行業(yè)
出現(xiàn)了芯片“斷供”現(xiàn)象,不禁讓世人驚嘆
小小芯片背后所隱藏的巨大力量

芯片的制造工業(yè)極其復(fù)雜,其中光刻工藝約占芯片制造成本的35%
耗時占40%-60%,是芯片制造過程中最為核心的一環(huán)

本期就聊一聊光刻工藝
路漫漫其修遠(yuǎn)兮 吾將上下而求索
光刻工藝必須說到光刻機(jī)。光刻機(jī)主要由工作臺、激光系統(tǒng)以及物鏡系統(tǒng)三部分組成工作原理是利用光線刻畫電路的過程。他把掩模版上的芯片電路一個個的復(fù)制到光刻膠薄膜上,然后通過刻蝕技術(shù)把電路“畫”在晶圓上
(如下圖所示)
光刻機(jī)

工作原理雖然不復(fù)雜但對精度的要求非常高
世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)精度已達(dá)到驚人的5nm
而目前國內(nèi)光刻機(jī)達(dá)不到先進(jìn)水準(zhǔn)仍需要依靠引進(jìn)國外產(chǎn)品

但使龍城飛將在 不教胡馬度陰山
即便擁有超高精度的光刻機(jī),如果沒有光刻工藝中圖形轉(zhuǎn)移的載體光刻膠,依然無法制造出完美的芯片。光刻膠是由感光樹脂、增光劑和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝中,光刻膠被均勻涂布在襯底上,經(jīng)過曝光、顯影與刻蝕等工藝將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上形成與掩模版完全對應(yīng)的幾何圖形
光刻膠研發(fā)調(diào)試
光刻膠研發(fā)調(diào)試
從類別上分主要分為印制電路光刻膠(PCB)、液晶顯示器光刻膠(LCD)、半導(dǎo)體光刻膠(芯片)
半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域國內(nèi)仍處于空白領(lǐng)域,是真正的命脈
從類別上分主要分為印制電路光刻膠(PCB)、液晶顯示器光刻膠(LCD)、半導(dǎo)體光刻膠(芯片)
一個芯片在制造過程中需要進(jìn)行 10-50道光刻過程,不同的光刻工藝對于光刻膠的要求也不經(jīng)相同
隨著芯片設(shè)計(jì)技術(shù)的突破、先進(jìn)光刻機(jī)的引進(jìn)、國產(chǎn)膠技術(shù)也將突破技術(shù)難關(guān),打破壟斷
試劑調(diào)試、光刻作業(yè)離不開無塵環(huán)境
試劑調(diào)試、光刻作業(yè)離不開無塵環(huán)境

不同的光刻過程需要配合對應(yīng)的光刻膠,適合的工具可以幫助科研人員事半功倍

莫愁前路無知己 天下誰人不識君
芯片事業(yè)離不開一批批傾盡全力奉獻(xiàn)著的科研人員,同樣離不開一群群隱藏在背后默默無聞的力量
成為明“芯”之路必將坎坷,或許需要幾代人不斷傳承延續(xù),但那份勇氣和堅(jiān)持必將成為披荊斬棘
之劍
每一名芯片行業(yè)背后隱藏的力量都值得尊敬和愛護(hù)

每一名芯片行業(yè)背后隱藏的力量都值得尊敬和愛護(hù)